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Tokyo Electron Limited

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  2021 Application Ranking      39th  publications: 405 上昇2020: 43th  773)

  2021 Acquisition Ranking      51th  registrations: 220 上昇2020: 54th  436)

(update:Jun 18, 2021)

2011  2012  2013  2014  2015  2016  2017  2018  2019  2020 

Publication numberTitle of the InventionPublic. dateRemarks
B 6890029 Board transfer device and board transfer method Jun 18, 2021
B 6890085 Board processing equipment Jun 18, 2021
B 6890459 Plasma processing equipment and control method Jun 18, 2021
B 6890476 Method of forming a silicon-containing film Jun 18, 2021
B 6890497 Plasma processing equipment Jun 18, 2021
B 6890617 Gas processing equipment and substrate processing equipment Jun 18, 2021
B 6890632 Data processing equipment, data processing methods and programs Jun 18, 2021
B 6886866 Vacuum drying device Jun 16, 2021
B 6886940 Plasma processing method Jun 16, 2021
B 6887016 Gettering layer forming apparatus, gettering layer forming method and computer storage medium Jun 16, 2021
B 6887332 Inspection system Jun 16, 2021
B 6887545 Semiconductor system and data editing support method Jun 16, 2021
B 6887912 Substrate processing equipment, substrate processing method and storage medium Jun 16, 2021
B 6888120 A storage medium in which a substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a program for executing the substrate processing method are recorded. Jun 16, 2021
B 6888393 Etching device, etching method and storage medium Jun 16, 2021

1-15 (total:224)

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: select publication number

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6890029 6890085 6890459 6890476 6890497 6890617 6890632 6886866 6886940 6887016 6887332 6887545 6887912 6888120 6888393

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