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Tokyo Electron Limited

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  2013 Application Ranking      60th  publications: 712 下降2012: 53th  714)

  2013 Acquisition Ranking      45th  registrations: 796 下降2012: 37th  902)

(update:May 13, 2021)

2011  2012  2014  2015  2016  2017  2018  2019  2020  2021 

公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2013-258270 Substrate mounting table and substrate processing apparatus Dec 26, 2013
特開 2013-257977 Plasma processing device and probe device Dec 26, 2013
特開 2013-258244 Etching method and plasma processing apparatus Dec 26, 2013
特開 2013-257189 Temperature measuring device and processing device Dec 26, 2013
特開 2013-258268 Substrate mounting table and substrate processing apparatus Dec 26, 2013
特開 2013-258383 Deposition method Dec 26, 2013
特開 2013-258389 Cooling mechanism and processing system Dec 26, 2013
特開 2013-258307 Plasma processing apparatus, plasma generation apparatus, antenna structure, and plasma generation method Dec 26, 2013
特開 2013-258098 Plasma processing apparatus, plasma generation apparatus, antenna structure, and plasma generation method Dec 26, 2013
特開 2013-258260 Substrate transport method and substrate transport apparatus Dec 26, 2013
特表 2013-546182 Dielectric film deposition method using microwave plasma Dec 26, 2013 共同出願
特開 2013-258409 Inductively coupled plasma processing device Dec 26, 2013
特開 2013-254906 Substrate processing equipment and substrate processing method Dec 19, 2013
特開 2013-254796 Maintenance equipment for semiconductor manufacturing equipment and maintenance methods for semiconductor manufacturing equipment Dec 19, 2013
特開 2013-254812 Wafer inspection interface and wafer inspection device Dec 19, 2013

1-15 (total:712)

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: select publication number

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2013-258270 2013-257977 2013-258244 2013-257189 2013-258268 2013-258383 2013-258389 2013-258307 2013-258098 2013-258260 2013-546182 2013-258409 2013-254906 2013-254796 2013-254812

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