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Tokyo Electron Limited

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  2016 Application Ranking      61th  publications: 616 下降2015: 56th  677)

  2016 Acquisition Ranking      49th  registrations: 561 上昇2015: 51th  433)

(update:Sep 22, 2021)

2011  2012  2013  2014  2015  2017  2018  2019  2020  2021 

Publication numberTitle of the InventionPublic. dateRemarks
B 6051788 Plasma processing apparatus and plasma generator Dec 27, 2016
B 6051858 Substrate processing equipment Dec 27, 2016
B 6051919 Liquid processing device Dec 27, 2016
B 6053656 Liquid processing device Dec 27, 2016
B 6053881 Plasma processing device Dec 27, 2016
B 6054049 Plating method, plating system and storage medium Dec 27, 2016
B 6054213 Support member and semiconductor manufacturing apparatus Dec 27, 2016
B 6054279 Metal wiring layer forming method, metal wiring layer forming apparatus and storage medium Dec 27, 2016
B 6054343 Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning system, substrate cleaning method and storage medium Dec 27, 2016
B 6054695 Film deposition equipment Dec 27, 2016
B 6054856 Method of forming insulating region Dec 27, 2016
B 6055387 Joining method, program, computer storage medium, and joining system Dec 27, 2016
B 6055537 Plasma processing method Dec 27, 2016
B 6055783 Substrate mounting table and plasma processing device Dec 27, 2016
B 6046974 Pattern formation method Dec 21, 2016

1-15 (total:572)

1 2 3 4 5 6 7next>

: select publication number

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6051788 6051858 6051919 6053656 6053881 6054049 6054213 6054279 6054343 6054695 6054856 6055387 6055537 6055783 6046974

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