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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第207位 254件 (2016年:第200位 217件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第227位 136件 (2016年:第268位 121件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6254098 | 基板の選択性酸化のための方法および装置 | 2017年12月27日 | |
特許 6254180 | 振動が制御される基板ハンドリングロボット、システム及び方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6250540 | レーザパターニングのための一体化された光および熱遮蔽層を有する薄膜構造およびデバイス | 2017年12月20日 | |
特許 6250704 | 基板プロセスチャンバのためのフィン付きシャッターディスク | 2017年12月20日 | |
特許 6250724 | カセットを位置合わせするための方法と装置 | 2017年12月20日 | |
特許 6248033 | 基板キャリアを用いたハイブリッドレーザ・プラズマエッチングウェハダイシング | 2017年12月13日 | |
特許 6242861 | 円錐形の石英ドームを通って伝送される光を制御する光学系 | 2017年12月 6日 | |
特許 6243530 | 基板を移動させるための位置決め装置 | 2017年12月 6日 | |
特許 6238253 | プラズマ処理チャンバのための高周波リターンデバイス及びプラズマ処理システム | 2017年11月29日 | |
特許 6238288 | 堆積装置および堆積の非対称性を低減させる方法 | 2017年11月29日 | |
特許 6238373 | 半導体用途のための結晶化処理 | 2017年11月29日 | |
特許 6238963 | プロセスキットシールドおよびプロセスキットシールドを有する物理的気相堆積チャンバ | 2017年11月29日 | |
特許 6239559 | 放射加熱された基板のクールダウンを向上させるための装置および方法 | 2017年11月29日 | |
特許 6240607 | 直線型大面積プラズマリアクタ内における均一プロセスのためのガス送出及び分配 | 2017年11月29日 | |
特許 6234438 | 回折効果を用いた光学モデルの測定スペクトルへの適合 | 2017年11月22日 |
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6254098 6254180 6250540 6250704 6250724 6248033 6242861 6243530 6238253 6238288 6238373 6238963 6239559 6240607 6234438
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10月15日(火) - 東京 港区
10月16日(水) - 東京 港
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10月16日(水) -
10月16日(水) -
10月17日(木) - 東京 品川
10月17日(木) - 東京 港
10月18日(金) - 東京 23区
10月15日(火) - 東京 目黒区
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