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Kyocera Corporation
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■ 2012 Application Ranking 19th publications: 1819
（
2011: 19th 1895）
■ 2012 Acquisition Ranking 19th registrations: 1679
（
2011: 17th 1840）
（update：Sep 26, 2023）
Kyocera Corporationの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-257129 | Portable terminal, backlight control program, and backlight control method | Dec 27, 2012 | |
| 特開 2012-257145 | Electronic device, control method thereof, and control program | Dec 27, 2012 | |
| 特開 2012-257220 | base station | Dec 27, 2012 | |
| 特開 2012-257331 | Wireless base station and wireless communication method | Dec 27, 2012 | |
| 特開 2012-256781 | Semiconductor layer manufacturing method, photoelectric conversion device manufacturing method, and semiconductor layer forming solution | Dec 27, 2012 | |
| 特開 2012-257156 | Communication terminal | Dec 27, 2012 | |
| 特開 2012-256585 | lighting equipment | Dec 27, 2012 | |
| 特開 2012-256754 | Light irradiation device, light irradiation module, and printing apparatus | Dec 27, 2012 | |
| 特開 2012-254523 | Surface coating member and cutting tool | Dec 27, 2012 | |
| 再表 2011-4868 | Wireless base station and communication control method | Dec 20, 2012 | |
| 特開 2012-253536 | Wireless communication system, transmission side device, reception side device, and communication method | Dec 20, 2012 | |
| 特開 2012-253631 | Wireless communication system, high power base station, low power base station and communication control method | Dec 20, 2012 | |
| 特開 2012-253793 | Wireless base station, wireless communication terminal, and wireless communication method | Dec 20, 2012 | |
| 特開 2012-253738 | Elastic wave element and elastic wave device using the same | Dec 20, 2012 | |
| 特開 2012-253295 | Variable inductor | Dec 20, 2012 |
1-15 (total:1819)
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2012-257129 2012-257145 2012-257220 2012-257331 2012-256781 2012-257156 2012-256585 2012-256754 2012-254523 2011-4868 2012-253536 2012-253631 2012-253793 2012-253738 2012-253295
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Patent Ranking in Japan
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最新の制度改正を反映海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国） ～米国ならびにEPC（欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
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